ReRAM性能介紹二

Crossbar擁有專利的轉(zhuǎn)換器設備解決了高密度ReRAM開發(fā)人員面臨的最大技術(shù)挑戰(zhàn)之一，它被稱為潛泄電流（或漏電流）。Crossbar的3D ReRAM存儲解決方案是基于1TnR陣列（1個晶體管驅(qū)動n個電阻式內(nèi)存單元），其選擇率使得讓一個晶體管管理很大數(shù)量的內(nèi)聯(lián)的內(nèi)存單元成為可能，從而實現(xiàn)很大容量的固態(tài)存儲。在1TnR模式下，1個晶體管能夠以非常低的功耗驅(qū)動超過2000個內(nèi)存單元，但也會遇到潛泄電流的漏電問題，對典型ReRAM陣列的性能和可靠性產(chǎn)生干擾。Crossbar擁有專利的電場輔助超線性閾值轉(zhuǎn)換器設備解決了這一漏電問題，它采用了一個超線性閾值層，里面有一個在閾值電壓值上形成的易變性傳導通路。這樣的電場輔助超線性閾值設備是業(yè)內(nèi)第一個能夠?qū)⑿孤峨娏饕种圃?.1納安之下的轉(zhuǎn)換器，并已在一個4 Mbit整合3D堆疊式被動Crossbar陣列中成功實現(xiàn)。

 

Crossbar的轉(zhuǎn)換器在2014年年底的IEDM上進行了展示，它實現(xiàn)了有報告以來最高的選擇率（10的10次方），低于5mV/dec的極銳斜率，超過100M周期的耐久性，以及低于300攝氏度的處理溫度，解決了潛泄通路問題，從而解決了潛泄通道問題，體現(xiàn)了商用可行性。Crossbar的轉(zhuǎn)換器是第一個解決了這一設計挑戰(zhàn)的解決方案，為在單芯片上實現(xiàn)TB字節(jié)級別的存儲成為現(xiàn)實鋪平了道路，從而使得ReRAM成為領(lǐng)先的下一代NAND內(nèi)存替代品。

 

 

CrossbarReRAM技術(shù)將簡化掉多個數(shù)據(jù)存儲部件和SSD或者其他類似數(shù)據(jù)存儲解決方案中的控制器之間的數(shù)據(jù)讀寫管理。減少后臺內(nèi)存操作的數(shù)量有助于提高數(shù)據(jù)存儲設備的性能和耐久性，但也降低了SSD控制器的功耗和對DRAM的使用，以及數(shù)據(jù)存儲部件在進行讀寫時的功耗。

 

在內(nèi)存單元層面，CrossbarReRAM提升了編程性能和功耗效率。它實現(xiàn)了64pJ/cell的編程功耗，與NAND閃存相比這是20倍的提升。


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